三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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Technology Database
技術データベース

ノンボッシュシリコン加工

概要

開発背景

シリコンの深溝加工には、通常ボッシュ方式が用いられる。
これには下図のようなスキャロップ形状やデポ膜付着が発生する。
これを防止するため2種のボッシュ方式以外での加工方法を検討した。

評価内容

2種類のガス種により壁面形状と深溝加工の評価を行った。

  1. SF6/C4F8ガス
  2. SF6/O2ガス

評価状況①:SF6/C4F8

グラフ・図のように、垂直な壁面形状ができるガス比を選択することができた。

ガス比依存性
SF6/C4F8ガス比と断面形状

評価状況②:SF6/O2

O2ガスでもグラフ・図のように、垂直な壁面形状ができるガス量を選択することができた。

O2ガス添加依存性
O2ガス量と断面形状

結論

どちらのガス種でも80μmまでの深溝加工ができた。

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