三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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Technology Database
技術データベース

レーザー加工機 ビア加工の小径化

概要

小径化の背景

非感光性材料もファイン化が進んでいるためビアの小径化が必要

レーザー加工機概要

小径化の手段

UVレーザーの径を調整するアパーチャを追加搭載

弊所レーザ加工機の特徴

CO2レーザーとUVレーザーが搭載された2軸の加工機

加工ビア径

  • CO2レーザー: Φ60~400 μm
  • UV レーザー: Φ8~68 μm (*Φ8~23μmは弊所特殊仕様)

ビアメカニクス社製レーザー加工機 LUC-2K21

ビア加工状態

  • 絶縁樹脂:15μm
  • Cu上の樹脂厚:12μm
AP/(μm) 49/(23) 52/(19) 55/(14) 57/(11) 59/(8)
dTop (μm) 22.5 18.0 13.9 11.7 8.3
dBtm (μm) 13.5 12.8 8.3 7.0 3.7

まとめ

アパーチャの小径化で小径ビアの加工が可能となった
デスミアはWetの場合ビア径が大きく広がるためDryが好ましい

今後の展開

エポキシ系絶縁材料での加工性は確認できたが、PI等他の樹脂材料での加工性、デスミア性の検証を進めてゆく

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