三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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Technology Database
技術データベース

47 8インチ用ウェハマニュアル洗浄装置

三次元半導体研究センター
ウェハ
クリーンルームE

機器外観

概要

No. 47
機器名 8インチ用ウェハマニュアル洗浄装置 
メーカー マック産業機器(株)
型番 ME-100-1009
装置概要 ウェハーの表面に付着した汚染物質や不純物を取り除くために使用する装置です。
超純水による洗浄が可能で、洗浄の度合いを水の比抵抗値を観察しながら処理ができる装置です。
料金/時間 3,600円
主な仕様 ◆装置寸法 W 1300×D 1150×H 2110 mm
◆超純水接続済
◆最終洗浄槽に比抵抗計装備
特徴 ◆2段階純水リンス洗浄処理

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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