研究開発棟（旧　三次元C） アーカイブ

• 2026-05-12

  鉛フリー対応N2リフロー装置

• 2026-05-12

  大型基板対応フリップチップボンダ

• 2026-05-12

  乾燥炉

• 2026-05-12

  プリント基板用プラズマクリーナー

• 2026-05-12

  プリント基板用Ｘ線ガイド穴明機

• 2026-05-12

  プリント配線板用UV＋CO₂レーザ加工機

• 2026-05-12

  FIB

• 2026-05-12

  ウェハ用電解銅めっき
  （ウェハ銅ポストめっき）

• 2026-05-12

  縦型酸化炉

• 2026-05-12

  ワイヤーボンダー

• 2026-05-12

  反応性イオンエッチング装置

• 2026-05-12

  ガラス（支持）基板貼合せ装置

• 2026-05-12

  ガラス（支持）基板剥離装置

• 2026-05-12

  自動切断機

• 2026-05-12

  チタン/Cu　スパッタ

• 2026-05-12

  恒温恒湿振動試験機

• 2026-05-12

  基板用ケミカルエッチング装置

• 2026-05-12

  高周波パラメータ測定システム

• 2026-05-12

  内蔵部品検査装置

• 2026-05-12

  マニュアルめっき装置（SnAgめっき）

• 2026-05-12

  クリーンローラー

• 2026-05-12

  マイグレーション評価装置

• 2026-05-12

  デジタルマイクロスコープ

• 2026-05-12

  予熱ラミネーター

• 2026-05-12

  乾燥炉200℃

• 2026-05-12

  プロービングシステム

• 2026-05-12

  乾燥炉360℃

• 2026-05-12

  プロダクションモジュラー

• 2026-05-12

  基板用現像装置

• 2026-05-12

  ストレスリリーフ研磨装置