当センターでは、三次元半導体研究開発・国際標準化推進、
開発試作・企業集積及び、中小・ベンチャー育成支援を実現する様々な施設・機器を提供します。
クラス1000の部屋が全7室。うち紫外線をカットするイエロールーム2室。
工程の主な機能はSi極薄研磨、TSVを想定したSi加工および配線形成工程、基板の配線パターンの露光工程、半導体テスター、電子顕微鏡、X線透視等の解析設備を完備しています。
電解めっき、無電解めっき、デスミア・表面粗化工程等から構成され、
部品内蔵基板のCu配線のめっきを行います。
また内蔵する部品の接続方法として銅めっきを用いる応用技術にも対応できるラインとなっています。
部品内蔵基板の配線形成のためのウエットラインで、現像工程・配線形成・レジスト剥離工程からなり、
配線基板は水平に流れていくことを総称して水平ラインと呼んでいます。
テラスに面する採光度の高いホールは入居者等の交流を深める場としてご活用いただけます。
仕事の疲れやストレスもシャワーを浴びてリフレッシュしていただけます。
