Technology Database
技術データベース
機器外観
概要
| No. | 52 |
| 機器名 | 縦型酸化炉 三次元半導体研究センター |
| メーカー | 光洋サ－モシステム（株） |
| 型番 | VF-1000 |
| 装置概要 | シリコンウェハに対して酸化膜を付ける装置です。R＆D、少量生産用として使用します。 |
| 料金/時間 | 8,200円 |
| 主な仕様 | |
| 特徴 |
設置場所
予約状況
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関連する要素技術 本機器に関する要素技術を紹介します
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