三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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技術データベース

7, 13, 23, 23-2, 23-3 乾燥炉

基板
三次元半導体研究センター
クリーンルームB
クリーンルームD
クリーンルームE
水平ライン室

機器外観

概要

No. 7, 13, 23, 23-2, 23-3
機器名 乾燥炉 
メーカー ヤマト科学(株)
型番 DE610U、DT610
装置概要 レジスト材料のPEB、ソルダーレジストやビルドアップフィルム等樹脂材料の硬化に使用します。
定値運転、オートスタート運転、オートストップ運転、およびプログラム運転が可能で、樹脂特性に合わせた条件での硬化が可能です。
料金/時間 3,000円
主な仕様 乾燥炉 200℃【DE610U】(7 CR-B、13 水平ライン)
 使用温度範囲: 室温+50~200℃
 最高温度到達時間: 約60 min (to 200℃)
 タイマー設定: 1分~99時間59分、および100~999時間

乾燥炉 360℃ 【DT610】(23 CR-B)
 使用温度範囲: 室温+30~360℃
 最高温度到達時間: 約80 min (to 360℃)
 タイマー設定: 1分~99時間59分、および100~999時間

乾燥炉(23-2 CR-E)
乾燥炉Si専用(23-3 CR-D)
特徴 ・クラス100対応のクリーンオーブンです。
・プログラム運転は最大16セグメントまで設定可能なため、必要に応じて最適なプロファイルを設定することが可能です。

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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