三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

menu

Technology Database
技術データベース

27 基板用現像装置

基板
三次元半導体研究センター
水平ライン室

機器外観

概要

No. 27
機器名 基板用現像装置 
メーカー Ampoc Far East
型番
装置概要 基板製造において、回路パターン露光後のドライフィルムレジスト、およびソルダーレジストを現像する装置です。
料金/時間 11,200円
主な仕様 現像液: 1 wt% Na2CO3
温度: 30℃
搬送幅: 600 mm
搬送速度: 0.5~3.0 m/min
スプレー圧: ~0.2 MPa
特徴 ・1 wt% Na2CO3によるアルカリ現像が実施可能です。
・槽容積の異なる現像槽が2槽*1あるため、短時間現像が可能です。 (min. 28 sec)

*1 現像槽幅
  現像1: 1,413 m, 現像2: 2,187 m

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

関連する要素技術 本機器に関する要素技術を紹介します

該当するデータが見つかりませんでした。

関連する事例 本機器に関する事例を紹介します

該当するデータが見つかりませんでした。