Technology Database
技術データベース
機器外観
概要
No. | 27 |
機器名 | 基板用現像装置 |
メーカー | Ampoc Far East |
型番 | |
装置概要 | 基板製造において、回路パターン露光後のドライフィルムレジスト、およびソルダーレジストを現像する装置です。 |
料金/時間 | 11,200円 |
主な仕様 | 現像液: 1 wt% Na2CO3 温度: 30℃ 搬送幅: 600 mm 搬送速度: 0.5~3.0 m/min スプレー圧: ~0.2 MPa |
特徴 | ・1 wt% Na2CO3によるアルカリ現像が実施可能です。 ・槽容積の異なる現像槽が2槽*1あるため、短時間現像が可能です。 (min. 28 sec) *1 現像槽幅 現像1: 1,413 m, 現像2: 2,187 m |
設置場所

予約状況
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