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Technology Database
技術データベース

49 ストレスリリーフ研磨装置

三次元半導体研究センター
ウェハ
クリーンルームD

機器外観

概要

No. 49
機器名 ストレスリリーフ研磨装置 
メーカー 北川グレステック
型番 MAT ARW-681MSⅡ
装置概要 本装置は最大φ8インチウエハのCMP実験を手動ローディングで行う装置です。
加工するウエハ1枚ごとに独自にレシピを設定することができます。
ドレスは独立したドレスユニットを持っており、小径スキャンドレスが可能です。
また、ゾーンの制御が可能で研磨パッドの形状を作り込むことが可能です。
料金/時間 10,300円
主な仕様 ・プラテンφ610mm(10rpm~120rpm)
・ポリッシングヘッド φ8インチ(5rpm~120rpm)
・ドレス部 φ100ダイヤドレス(マグネットタイプ)、ブラシドレス(10rpm~150rpm)
・スラリー供給  ローラーチューブポンプ
・真空ポンプユニット ドライユニット(トラッパー付)
・装置寸法:W1400×D850×H2200(mm)
・装置重量:約1.5t
特徴 ・ウエハ加圧にはエアバック機構を有する。
・単独で可動できるリテーナ部を有する。
・φ100のドレスを有する。
・φ100のドレスがスウィープし、かつ可動範囲の速度を分割してコントロールすることが可能。
・異常事態等に対する安全機構を有する。

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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