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Technology Database
技術データベース

82 有機溶剤現像装置
(Organic Solvent Developer)

三次元半導体研究センター
ウェハ
クリーンルームG

機器外観

概要

No. 82
機器名 有機溶剤現像装置
(Organic Solvent Developer) 
メーカー 滝沢産業(株)
型番 AD-3000
装置概要 装置は処理室、アーム式スキャンニングスプレー機構、プログラムコンピュータ
より構成されます。
処理方法は上面ドアー開閉し、基板を手動にて投入、セット、基板を回転させ薬品の噴霧により薄膜を処理しドアー開閉、基板取り出しをします。
基板は現像後、連続工程で洗浄、スピン乾燥(リンス振り切り)を行います。

※ 現在、溶剤(Cyclopentanone、PGMEA)の安定供給が難しいため、溶剤は持ち込みをお願いしています。
ご利用希望の場合はあらかじめ担当研究員へご相談お願いいたします。
料金/時間 9,000円
主な仕様 対象基板:シリコン基板
基板サイズ:∅8〞〜∅12〞用
基板ホルダー:真空吸着式・メカ式
基板回転数:0〜3000rpm 可変式
使用薬液;アルカリ系現像液
処理方法;スプレー2スイングアーム式
4 系統3薬液対応方
現像用ノズル 1系統 扇形ノズル使用 ノズル交換可能
現像用ノズル 2系統 扇形ノズル使用 ノズル交換可能
現像用ノズル 3系統 扇形ノズル使用 ノズル交換可能
リンス用ノズル 1系統 扇形ノズル使用 ノズル交換可能
(バックリンスノズル付、扇形ノズル使用)
特徴 ワークサイズ MAX∅300mm(∅12”)
液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作
テフロンエアオペレイトバルブ使用

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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