三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

menu

Technology Database
技術データベース

L7 ウエハープラズマクリーナー

三次元半導体研究センター
ウェハ
クリーンルームG

機器外観

概要

No. L7
機器名 ウエハープラズマクリーナー 
メーカー SAMCO
型番 PC-1100
装置概要 ウェハプロセスにおいて、ウェハ表面の洗浄や表面改質に使用する装置です。
主に、シード層形成前の有機物の除去や、めっき前のレジスト残渣除去、および銅表面の濡れ性を向上させるために使用します。
料金/時間 5,300円
主な仕様 平行平板型プラズマクリーナー
処理モード: RIE (反応性イオンエッチング)、PE (プラズマエッチング)
対応サイズ: 350 x 425 mm
ガス種: O2, Ar
特徴 ・スパッタ前にウェハ表面を清浄化することで、シード層との密着性を向上させます。
・銅めっき前に表面処理をすることで、レジスト残渣が除去され、かつ銅表面の親水化される
 ことで、微細配線や小径ビアへのめっき性が向上します。

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

関連する要素技術 本機器に関する要素技術を紹介します

該当するデータが見つかりませんでした。

関連する事例 本機器に関する事例を紹介します