三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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Technology Database
技術データベース

R1 高温クリーンオーブン

三次元半導体研究センター
ウェハ
クリーンルームD

機器外観

概要

No. R1
機器名 高温クリーンオーブン 
メーカー ジェイテクトサーモシステム
型番 CLH-21CD(Ⅲ)-S
装置概要 N2ガスを導入することにより低酸素濃度雰囲気での熱処理を可能とした装置です。
槽内には耐熱高性能フィルタを装備し、清浄度(クラス100)を維持することができます。
槽内フロー方向は、正面向かって右側から左側へ吹き出すサイドフロー方式です。
料金/時間 8,500円
主な仕様 温度範囲:~450℃
温度分布:±5℃(at450℃)(無試料,均熱安定時)
温度上昇時間:80分以内 (RT+70℃→450℃)(無試料)
度下降時間: 90分以内 (450℃→100℃)(無試料)
槽内清浄度:クラス100(0.5μm) (温度安定時)
残留O2濃度:20ppm 以下 (N2ガス250L/min,導入後 45分以内)
特徴 耐熱型の高性能フィルターと独自冷却器の搭載で最高450℃までの高温処理が行えるクリーンオーブンです。
内槽をアルゴン溶接と耐熱用シール材にて全周シールし気密性を向上させた構造になっています。

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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