Technology Database
技術データベース
機器外観
概要
| No. | S4 |
| 機器名 | マニュアルめっき装置（Ni/Auめっき） |
| メーカー | 自家製 |
| 型番 | |
| 装置概要 | ウェハプロセスにおいて、Pad、バンプ表面の保護やはんだ濡れ性向上のためのNi/Auめっきを行う装置です。 |
| 料金/時間 | 50,800円 |
| 主な仕様 | 対応サイズ: 6インチ、8インチウェハ 【プロセスフロー】 クリーナー → マイクロエッチ → 活性 → キャタリスト → ポストディップ → 無電解Niめっき → 置換Auめっき 【使用薬液】 クリーナー: DP-320 クリーン マイクロエッチ: 過硫酸ナトリウム+硫酸 活性: 10 wt% H2SO4 キャタリスト: ICP アクセラ KCR ポストディップ: 10 wt% H2SO4 無電解Ni: ICP二コロンGME (NP) 置換Au: ムデンノーブルAU/亜硫酸金塩水溶液 (ノンシアン系) |
| 特徴 | ・ウェハのPadパターンをNi/Auめっきすることで、Pad部を保護することが可能です。 ・バンプ表面にNi/Auめっきすることで、はんだとの濡れ性を向上させることができ、接続信頼性が向上します。 |
設置場所
予約状況
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