三次元半導体研究センター 社会システム実証センター 公益財団法人福岡県産業 科学技術振興財団

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Technology Database
技術データベース

S5 チタン/Cu スパッタ

基板
三次元半導体研究センター
クリーンルームF

機器外観

概要

No. S5
機器名 チタン/Cu スパッタ  
メーカー (株)アルバック
型番 SH-450
装置概要 プレーナマグネトロン型ハイレートカソードを用いて、φ8インチの基板上にチタン/Cuの金属膜を成膜するための装置です。
料金/時間 40,600円
主な仕様 プロセスガス:Ar、O2、N2
成膜:Ti、Cu
処理枚数:φ8インチ4枚/バッチ
特徴 スパッタ源としてφ6インチプレーナマグネトロン型カソードを採用しています。
基板はφ450ターンテーブル型電極に取り付けて製膜します。回転成膜及び静止成膜が可能です。
高周波エッチクリーニング機構が付属しており、成膜前の基板クリーニングが可能です。
排気系の主ポンプにはターボ分子ポンプ+クライオスーパートラップ、補助ポンプには油回転ポンプを採用しています。

設置場所

予約状況

下記で装置の予約状況を確認いただけます。(準備中)

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